反射電子像の画像解析法とPowersモデルを組合せ, さらに選択的溶解法により求めたポゾラン反応度を使用して, シリカフュームおよびフライアッシュを混入したセメントペーストの内部組織構成相を求めた. ポゾラン反応が進行することにより, 全毛細管空隙量に対する粗大な毛細管空隙量の割合が増大する. 細孔構造と圧縮強度の対応から, 強度発現には粗大な毛細管空隙量の減少が重要である. また, 混和材を用いた場合もゲル空隙比説の適用が可能であるが, セメントペーストの圧縮強度の発現には粗大な毛細管空隙量および微細な毛細管空隙量の相対的な割合が重要な役割を果たすため, 混和材を混入すると粗大な毛細管空隙の割合が増大し, 同一ゲル空隙比であっても強度は低くなる.